生成氯氣和氫氧化鈉的方法有很多種。無論是膜製程、隔膜製程還是汞製程的系統，都使用飽和的氯化鈉溶液來生成基礎工業材料，如氯氣和氫氧化鈉。反應如下：2NaCl+2H₂O → Cl₂+2NaOH+H₂。主要產品是陽極的氯和陰極的氫氣與氫氧化鈉。當分析系統旨在測量氯中的微量氫（Cl₂ 中的 H₂）以控制和監測製程時，熱導傳檢測器（TCD）的 H₂ 分析儀通常會受到其他成分的干擾，特別是氯。 MUV-9000 具有高功率和精確的紫外線波長，可幫助分析系統將所有氫（H₂）轉化為氯化氫（HCl）。當設計兩個 TCD 檢測器通道（或兩個 TCD 分析儀）時，通道 A 用於測量含氫樣品，另一個用於測量不含氫的樣品。通過比較通道 A 和 B，分析系統可以給出氫濃度的結果。 通道 A（含氫）： 氣體樣品成分：Cl₂、H₂O、CO₂、N₂、O₂、H₂ 通道 B（經 MUV-9000 轉換後無氫）： 氣體樣品成分：Cl₂、H₂O、CO₂、N₂、O₂、HCl